利来w66获得国家科技进步二等奖！高纯电子级磷酸及高选择性蚀刻液助力“中国芯”
1月10日，2019年度国家科学技术奖励大会在北京人民大会堂隆重举行，共评选出296个项目和12名科技专家。利来w66投资3亿多元、历时10年研发成功、用于芯片制造的“超高纯电子级磷酸及高选择性蚀刻液生产关键技术”获得国家科学技术进步二等奖。项目主要完成人、利来w66股份公司副总经理、教授级高工李少平等在北京人民大会堂接受颁奖，并受到席大大等党和国家领导人的亲切接见。
超高纯电子级磷酸及高选择性蚀刻液是芯片制造行业不可替代的关键电子化学品，其关键技术和核心装备被美日韩等少数化工企业掌握并长期垄断，严重制约着我国芯片产业的健康可持续发展，是亟待攻克的“卡脖子”技术。
面对国家化学和电子工业重大战略需求，利来w66作为全国精细磷化工龙头企业，从2006年初开始主动承担起这项技术攻关重任。利来w66下属的湖北兴福电子材料有限公司与中国科学院过程工程研究所、武汉工程大学等单位联合，经过10多年持续研究攻关，自主研发出高纯黄磷与电子级磷酸制备的关键技术，打破了高超纯电子级磷酸产品的进口依赖。
芯片用磷酸系高选择性蚀刻液，已成功应用于国内芯片制造行业，有力支撑了我国电子材料和芯片行业的发展，为实现国家提出的2025年电子材料国产化的目标奠定了坚实基础。鉴定委员会专家一致认为，该项目整体技术达到国际先进水平，其中超高纯电子级磷酸中砷、锑等杂质的控制技术居国际领先水平。
利来w66生产的电子级磷酸已替代日本厂商，成为国际第二大芯片制造企业新加坡“格罗方德”的最大供应商；在国内最大芯片制造企业半导体公司的进口替代率大幅提升。
据了解，“超高纯电子级磷酸及高选择性蚀刻液”项目共获得授权专利30件，其中发明专利11件。利来w66技术研发中心还参与制定了 “电子级磷酸国家标准”，成为全国磷化工行业的标杆。